第九五六章 研发极紫外光

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     　　前世虽然Nikon凭借技术实力和资金实力先后研制成功F2准分子激光器和浸没式光刻技术，生产成功浸没式光刻机，但半导体产业更新换代迅速，导致Nikon光刻机的可靠性能始终落后于ASML，从此，全球高端光刻机龙头Nikon逐渐败给了全球光刻机新霸主ASML。

前世由于ASML独有的EUV光源无人能够研制，国内光刻机光源生产公司的技术没有竞争力，以美国为首的西方国家并没有限制ArF准分...